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考夫曼離子源KDC 160輔助沉積高鋁超硬涂層增強切削性能

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伯東KRI無柵霍爾離子源eH 3000輔助鍍制高質(zhì)量光學(xué)薄膜

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伯東 KRI離子源用于大口徑光學(xué)元件KDP 晶體的濺射與刻蝕

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KRI 聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜

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KRI 考夫曼離子源 KDC 100 輔助鍍制五金連接件鉻膜

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KRI 射頻離子源用于碳化硅微納結(jié)構(gòu)表面刻蝕

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KRI聚焦型射頻離子源RFICP380用于制備超薄TEM樣品

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考夫曼霍爾離子源eh 3000用于清洗PPS/PEEK襯底面

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射頻離子源RFICP220用于ZAO透明導(dǎo)電薄膜性能研究試驗

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伯東KRI聚焦型射頻離子源輔助磁控濺射沉積氧化銦錫ITO薄膜

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射頻離子源RFICP 380和分子泵組用于濺射沉積Cu薄膜

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KRI 離子源用于離子束濺射鍍制 Ge 納米薄膜的研究

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KRI雙離子源輔助離子束濺射技術(shù)獲取高反射吸收Ta2O5薄膜

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伯東KRI考夫曼射頻離子源RFICP220輔助 LED 封裝

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伯東KRI考夫曼射頻離子源RFICP140輔助鍍制OSR膜層

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伯東考夫曼射頻離子源RFICP220用于修正高精度CGH基底

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伯東KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140 用于清洗繼電器

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考夫曼射離子源RFICP380輔助濺射沉積制備鋰硫電池正極片

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采購訂單編號：No.7881       發(fā)布時間：2021-01-27

考夫曼射頻離子源FRICP380輔助濺射鍍制Al2O3薄膜

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采購訂單編號：No.7880       發(fā)布時間：2021-01-27

考夫曼射頻離子源RFCIP220輔助濺射制備GdF3光學(xué)薄膜

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