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伯東 KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數(shù):
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型號 |
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RFICP 140 |
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Discharge |
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RFICP 射頻 |
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離子束流 |
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>600 mA |
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離子動能 |
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100-1200 V |
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柵極直徑 |
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14 cm Φ |
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離子束 |
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聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
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5-30 sccm |
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通氣 |
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
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< 0.5m Torr |
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長度 |
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24.6 cm |
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直徑 |
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24.6 cm |
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中和器 |
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LFN 2000 |
推薦使用 KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140是因為其束流密度、能量可以精確控制, 工藝剛好符合客戶要求.
其工藝流程為:
在原有的真空鍍膜機上安裝一臺KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140, 產(chǎn)生離子束. 離子束清洗應用在鍍膜沉積前, 利用離子束轟擊基片, 濺射基片表面的污染物進行凈化, 同時也對基片表面除氣.
先將清洗干凈的石英玻璃基片放入真空室,再將系統(tǒng)的真空度抽至低于 5·10-4Pa, 然后充入工作氣體氬氣保持 5min 后, 打開離子源進行清洗. 清洗完畢后再次將系統(tǒng)的真空度抽至低于 5·10-4Pa,充入氬氣至 0.3Pa 進行濺射鍍銀.
為了保證真空室的真空度, 客戶采用的是伯東Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace1800, 其參數(shù)如下：
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分子泵型號 |
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界面 DN |
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抽速 l/s |
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壓縮比 |
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最高啟動壓強mbar |
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極限壓力 |
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全轉(zhuǎn)速氣體流量hPa l/s |
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啟動 |
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重量 |
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進氣 |
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排氣 |
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氮氣 |
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氦氣He |
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氫氣 H2 |
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氮氣 |
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氮氣N2 |
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hPa |
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氮氣N2 |
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min |
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kg |
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Hipace 1800 |
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200 |
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40 |
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1,450 |
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1,650 |
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1,700 |
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> 1X108 |
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1.8 |
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< 1X10–7 |
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20 |
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4 |
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33 – 34 |
運行結果:
KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140可以對基片表面進行有效的清潔、活化的, 有利于改善膜層附著力
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
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