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微納米硅化鉭粉-納米硅化物粉體

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技術參數

產品歸類	型號	平均粒徑（um）	純度（%）	比表面積（m2/g）	體積密度（g/cm3）	晶型	顏色
納米級	CW-TaSi2-001	50nm	99.5	36.23	5.16	立方	灰黑色
微納級	CW-TaSi2-002	<1.0	99.5	25.12	5.81	立方	灰黑色
超細級	CW-TaSi2-003	1-3um	99.5	16.13	5.94	立方	灰黑色
顆粒級	CW-TaSi2-005	325目	99.5	7.28	6.98	立方	灰色
加工定制	根據客戶需求適當調整產品純度及粒度

主要特點
微納米硅化鉭粉-納米硅化物粉體 http://www.cwnano.com.cn/product-item-65.html

新一代復合鍍功能材料用納米碳化硅（SiC）

電沉積納米復合鍍層是利用電化學的原理,將納米微粒與欲沉積金屬的離子在陰極表面實現共沉積,并形成具有某些特殊功能的納米復合電鍍工藝。納米碳化硅復合鍍，是常溫條件下強化金屬工件表面的最新工藝能顯著提高鍍層顯微硬度，提高納米碳化硅在鍍層中的滲透性和致密性，增強工件的抗磨損能力，并且，該方法對被加工工件沒有特殊要求，對工件不會產生不良影響，應用范圍寬，具有耐高溫、抗氧化、強度高、硬度高、導熱性良好等優異性能。采用納米級碳化硅微粒第二項混合顆粒，在金屬表面形成高致密度，結合力非常好的電沉積復合鍍層，其金屬表面具有超硬（耐磨）和減磨（自潤滑）耐高溫的特點。納米級增強復合鍍添加劑的實施可以顯著提高企業產品質量、成倍提高產品使用壽命，有著巨大的社會經濟效益。其復合鍍層顯微硬度大幅度提高、耐磨性提高3-5倍、使用壽命提高2-4倍、鍍層與基體的結合力提高30-40% 、覆蓋能力強，鍍層均勻、平滑、細致。