UV光氧廢氣處理設備采用紫外線光源對廢氣分子鏈進行凈化的專業技術，運用253.7納米波段光切割、斷鏈、燃燒、裂解廢氣分子鏈，改變分子結構，為第一重處理；取185納米波段光對廢氣分子進行催化氧化，使破壞后的分子或中子、原子以O3進行結合，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在催化氧化過程中，轉變成低分子化合物CO2、H2O等，為第二重處理；再根據不同的廢氣成分配置7種以上相對應的惰性催化劑，催化劑采用蜂窩狀金屬網孔作為載體，全方位與光源接觸，惰性催化劑在338納米光源以下發生催化反應，放大10-30倍光源效果，使其與廢氣進行充分反應，縮短廢氣與光源接觸時間，從而提高廢氣凈化效率，催化劑還具有類似于植物光合作用，對廢氣進行凈化效果，為第三重處理，通過三重處理后的廢氣其除臭最高可達99%以上。

UV光氧廢氣處理設備設計中還須重視吸塵罩的設置。如果吸塵罩設計的合理，使用較小的抽風量就可以有效低控制粉塵的逸散，反之，用很大的抽風量也不一定達到預期的效果。吸塵罩的設置須遵循以下基本原則：

1)吸塵罩的設置，要按防止粉塵逸散到周圍環境空間的原則確定，吸塵罩的吸氣宜盡可能利用污染氣流的運動作用。

2)吸塵罩不應設在氣流含塵高的部位或飛濺區內，以免吸入大量粉料。

3)吸塵罩需要有一定的空間，以緩沖氣流減小正壓，與接管連接時收縮角不宜大于60°。

4)吸塵罩應盡可能將塵源點包圍起來，使粉塵的擴散限制在最小的范圍，便于捕集粉塵，一定程度上減小抽風量。

5)吸塵罩應力求結構簡單，便于安裝，且不影響工藝操作和維護管理。

采用uv光氧除塵器工藝對單一的有機廢氣物質或惡臭氣體物質嚴格控制進氣濃度、氣量及其他條件時，uv光氧除塵器功率充足的情況下，測得uv光氧除塵器效率均可達到99%以上。但實際運用過程中，由于受到各種因素或者條件的影響，如廢氣成分復雜，廢氣濃度不穩定或者不能達到uv光氧除塵器最適中的范圍（濃度過高或過低均會影響其凈化去除率），風量、氣壓、溫度、濕度等環境條件不穩定或者達不到uv光氧除塵器的要求，廢氣預處理做的不夠理想，后續排放管道沒有留夠充足的氧化反應管道等等，導致uv光氧除塵器的凈化效率參差不齊，差異很大，甚至在滿足所有外在條件的基礎上，處理不同成分的廢氣其凈化效率也有差別。所以很難單純的去界定一套uv光氧除塵器設備對廢氣的凈化去除率，我們只能說盡量的去調整影響uv光氧除塵器設備凈化率的各種因素，盡量的去提高uv光氧除塵器工藝的凈化效率。在各種因素都比較適宜的條件下，uv光氧除塵器系統在實際運用中是可以達到90%以上的，甚至某些成分的廢氣其凈化效率可以達到95%以上甚至更高。