微波熱學(xué)儀器、試驗(yàn)分析儀器、及配件制造和相關(guān)技術(shù)咨詢、技術(shù)開發(fā)和技術(shù)服務(wù);基礎(chǔ)軟件開發(fā),應(yīng)用軟件開發(fā);工業(yè)自動(dòng)控制系…
普通會(huì)員
產(chǎn)品價(jià)格¥1.00元/套
產(chǎn)品品牌任氏巨源
最小起訂≥1 套
供貨總量1000 套
發(fā)貨期限自買家付款之日起 45 天內(nèi)發(fā)貨
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更新日期2021-07-12 15:10
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品牌: |
任氏巨源 |
所在地: |
河北 唐山市 |
起訂: |
≥1 套 |
供貨總量: |
1000 套 |
有效期至: |
長期有效 |
3種加熱方式: |
微波加熱 類似于傳統(tǒng)電加熱 混合加熱 |
測溫方式: |
采用微波場專用溫度傳感器 |
加熱材料: |
易燃易爆的任何材料 包括金屬材料 |
產(chǎn)品名稱:微波化學(xué)反應(yīng)器 型號(hào):WBMW-H2。
所屬應(yīng)用學(xué)科:微波化學(xué)反應(yīng)器為微波合成提供了一個(gè)先進(jìn)、可靠和安全的實(shí)驗(yàn)工具,其高效的微波能保證了微波加熱的均勻性和實(shí)驗(yàn)的均一性與重現(xiàn)性,具有無可比擬的優(yōu)勢。
應(yīng)用領(lǐng)域:高校、研究院所進(jìn)行制藥研究、有機(jī)化學(xué)合成、生物醫(yī)藥、材料合成、微波萃取等研究工作。適用于液體加熱回流、微波合成、微波溶樣、微波水解、微波催化和微波萃取等領(lǐng)域。
產(chǎn)品特點(diǎn):1.采用觸摸屏操作,可視化系統(tǒng),含光源、視頻及計(jì)算機(jī)監(jiān)控;
2.采用微波場專用溫度傳感器:直接插入反應(yīng)體系內(nèi)部,采集反應(yīng)體系內(nèi)部溫度,有效的消除電磁波的干擾,使采集數(shù)據(jù)可靠。該溫度傳感器能夠有效抵御酸、堿及有機(jī)溶劑的腐蝕;
3.內(nèi)置磁力攪拌器,攪拌速度無極可調(diào);
4.配置保護(hù)性氣體加入口;
5.開放式反應(yīng)體系:根據(jù)反應(yīng)條件加裝標(biāo)準(zhǔn)口的反應(yīng)容器(容積1-3L)及冷凝會(huì)流,滴加,補(bǔ)液和分水等裝置。
技術(shù)參數(shù)
型號(hào)(model) |
WBMW-H2 |
微波頻率 |
2.45GHz±50MHz |
加熱方式 |
純微波加熱、混合加熱 |
最大功率(KW) |
2 (功率可調(diào)) |
最高工作溫度(℃) |
1600 |
長期穩(wěn)定工作溫度(℃) |
≤1500 |
溫度測試元件 |
微波場專用傳感器;紅外測溫儀(可選) |
控溫精度(℃) |
±2(微波場專用傳感器) |
諧振腔尺寸(mm) |
300′300′450 |
加熱腔材質(zhì) |
陶瓷纖維 |
加熱腔數(shù)量(個(gè)) |
0.5~3L任選2(加熱腔型號(hào)與尺寸詳見附表2) |
升溫速率(℃/min) |
>200范圍內(nèi)任意設(shè)定,可編程、分段加熱 |
溫度控制系統(tǒng) |
采用PLC控制,觸摸屏控制 |
攪拌方式 |
磁力攪拌 |
反應(yīng)容器容量 |
500℃的1~3L燒瓶一個(gè),剛玉容器1L以下和石英容器2L以下可選 |
可視系統(tǒng) |
可通過電腦監(jiān)控 |
主機(jī)外型尺寸(mm) |
730′610′700 |
微波泄漏量(Mw/cm2) |
≤0.4 |
提供相關(guān)配件 |
高溫手套×1副、中文說明書×1本、坩堝爐×1個(gè) |
保修期 |
整機(jī)免費(fèi)保修1年 |
根據(jù)用戶需求,還可添加如下功能模塊:
1.真空&氣氛微波管式爐模塊:真空條件下的材料合成、燒結(jié)與處理
2.材料合成動(dòng)力學(xué)模塊:超高速升溫≥1000℃/min
3.超高溫加熱模塊:微波加熱到1800℃,不考慮保溫材料的壽命
4.高溫旋轉(zhuǎn)加熱模塊:用于陶瓷的高溫旋轉(zhuǎn)燒結(jié)&材料合成、金屬或礦石等高溫熔體的高速離心提純
5.高溫機(jī)械攪拌模塊:高溫?cái)嚢钘l件下的材料合成&燒結(jié)與處理
6.多溫區(qū)加熱模塊:不同溫區(qū)下的材料合成與處理,特別適合有氣氛參與的材料合成與處理
7.坩堝爐模塊:用于金屬、合金、礦石的高溫熔煉與冶金
8.微波電弧爐模塊:用于氣氛條件下微波電弧參與或誘發(fā)的材料合成
9.原位宏量熱重分析儀模塊:用于材料的熱重分析測試
10.微波等離子模塊:用于等離子下的材料合成、燒結(jié)與處理
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