產(chǎn)品描述

上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場(chǎng)上最高效, 提供最高離子束流的離子源.

尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“

放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 3000 產(chǎn)品特性：

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性：

1.水冷 - 加速冷卻

2.可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí),最大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極

3.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

4.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便

5.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術(shù)參數(shù)：

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 3000 應(yīng)用領(lǐng)域：

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 3000 應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

2. 輔助鍍膜 ( 光學(xué)鍍膜 ) IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 直接沉積 DD